Aspirapolvere microonde plasma Cleaning Machine plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Soluzione IC per pacchetto

Funzione: Resistenza all′abrasione
Certificazione: CE
Garanzia: 12 mesi
grado automatico: Semiautomatico
Installazione: Verticale
Tipo determinato: Elettrico

Products Details

  • Panoramica
  • Descrizione del prodotto
  • Parametri del prodotto
  • Profilo aziendale
Panoramica

Informazioni di Base.

vita Mould
> 1.000.000 Shots
Pacchetto di Trasporto
Minder-Hightech
Marchio
minder-hightech
Origine
China
Capacità di Produzione
100

Descrizione del Prodotto

Descrizione del prodotto

Microonde plasma Cleaner
SPV-100MWR è un sistema di pulizia al plasma a microonde a bassa tensione per semiconduttori. Applicando alla finestra sulla parete della cavità del vuoto microonde con frequenza di 2,45 GHz, si genera un gran numero di plasma continuo e il chip viene pulito entrando nella cavità.

Vacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to Package
Vacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to Package

Parametri del prodotto
Ospite plasma sottovuoto
Dimensioni dell'attrezzatura 1230X1800X1100 mm (larghezza x altezza x profondità)
Peso 450 kg
Richiesta di potenza AC380 V, 50 Hz, 5 fili, 30 A.
Specifiche del generatore di plasma
Alimentatore a microonde Potenza 0~1250 W.
Frequenza 2,45 GHz
Sistema a vuoto
Materiale Lega di alluminio (camera in acciaio inox personalizzabile)
Spessore 25 mm
Dimensioni interne della cavità 480 mmX470 mmX480 mm
Aree di lavoro 6 sezioni di magazzino
RACC Slotted Magazine offre un effetto di elaborazione migliorato ECR
Capacità plasma
Capacità di elaborazione Passo 35 um
40μm Sbattuta
Dimensioni massime stampo 15 x 15 mm
Vacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to Package

 

  
Profilo aziendale

 

Vacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to Package

Vacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to PackageVacuum Microwave Plasma Cleaning Machine Plasma Surface Treatment Semiconductor Packaging Solution IC to Package

Contattaci

Non esitare a inviare la tua richiesta nel modulo sottostante Ti risponderemo entro 24 ore